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PECVD系统，它由管式炉，石英真空室、真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。主要使用于:金属薄膜，陶瓷薄膜等，复合薄膜，石墨烯等生长。增加功能容易，可扩展等离子清洗刻蚀等功能。该PECVD系统具有： 薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等优点。
RF射频电源主要技术参数：
功率输出范围
0-500W
**反射功率
200W
工作频率
射频：13.56MHZ±0.005%
功率稳定度
+/-0.1%
谐波分量
≤-50dbc
射频区域宽度
0-600mm 可调
匹配方式
自动
冷却方式
分冷
噪声
<50dB
射频接口
50Ω N-type
输入电源
208-240V 50/60HZ
